Οι μηχανισμοί διάβρωσης των επικαλύψεων ψευδαργύρου παρουσιάζουν σημαντικές διαφορές μεταξύ όξινων\/αλκαλικών περιβαλλόντων και ουδέτερων ατμόσφαιρων. Σε γενικές γραμμές, σε ουδέτερες ατμόσφαιρες χωρίς όξινα ή αλκαλικά συστατικά, η επιφάνεια ψευδαργύρου αντιδρά με οξυγόνο στον αέρα για να σχηματίσει οξείδιο ψευδαργύρου (ZnO). Όταν υπάρχει υγρασία, μπορεί να σχηματίσει υδροξείδιο του ψευδαργύρου [Zn (OH) ₂].
Ωστόσο, όταν η επιφάνεια ψευδαργύρου εκτίθεται σε όξινες ή αλκαλικές ατμόσφαιρες που περιέχουν υγρασία, τα προϊόντα διάβρωσης γίνονται πιο πολύπλοκα, συμπεριλαμβανομένου του θειικού ψευδαργύρου (ZnSO₄), του χλωριούχου ψευδαργύρου (ZnCl₂), του υδροξείδιο του ψευδαργύρου [Zn (OH) ₂] και του ανθρακικού ψευδαργύρου (Znco₃). Ο ρυθμός διάβρωσης της επικάλυψης ψευδαργύρου ποικίλλει ανάλογα με το ρΗ του διαλύματος ηλεκτρολύτη που σχηματίζεται από αυτά τα ατμοσφαιρικά συστατικά και την υγρασία. Όπως απεικονίζεται στο σχήμα 1-1, μπορούν να εντοπιστούν τέσσερις ξεχωριστές περιοχές pH:
Έντονα όξινη περιοχή (pH <6): χαρακτηρίζεται από μέγιστο ποσοστό διάλυσης
Σταθερή περιοχή (ρΗ 6-12.5): σχηματισμός προστατευτικών μεμβρανών αλατιού ψευδαργύρου στην επιφάνεια επικάλυψης
Αραιώστε την αλκαλική περιοχή (ρΗ 12,5-13,5)
Έντονα αλκαλική περιοχή (ph> 13.5)
Αυτό καταδεικνύει θεμελιωδώς διαφορετικές συμπεριφορές διάβρωσης μεταξύ ουδέτερων περιβαλλόντων και εκείνων που περιέχουν όξινα\/αλκαλικά συστατικά. Η παρουσία επιθετικών ιόντων σε όξινες\/αλκαλικές ατμόσφαιρες μεταβάλλει σημαντικά την κινητική διάβρωσης και τον σχηματισμό προϊόντων σε σύγκριση με τις ουδέτερες συνθήκες, με το ρΗ να αποτελεί κρίσιμο καθοριστικό παράγοντα στον μηχανισμό διάβρωσης.
